フォトマスクブランクス

製品の利点

- 集積回路用フォトマスク

コメント

• フォトマスクブランクはフォトマスクの下地である。フォトマスクは、合成石英基板上に形成された遮光膜であり、半導体リソグラフィプロセスにおいてシリコンウエハ上の転送対象回路のパターンテンプレートとして使用される。