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とっきょざいりょう
CMP後クリーナー
製品の利点
- TMAH化学品なし
- PH値:11 ~ 13
コメント
• CMP後洗浄剤は、CMP(化学機械研磨)を除去した後にウェハ上に残留する金属、有機残留物、スラリー、その他の不純物を除去するための洗浄剤である。
製品詳細
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